Распределение тока и повышение равномерности осаждения...

  • Main
  • Распределение тока и повышение...

Распределение тока и повышение равномерности осаждения металлов

Шульгин В.Г.
0 / 0
0 comments
この本はいかがでしたか？
ファイルの質はいかがですか？
質を評価するには、本をダウンロードしてください。
ダウンロードしたファイルの質はいかがでしたか？
年:
1983
出版社:
ЛДНТП
言語:
russian
ファイル:
DJVU, 481 KB
IPFS:
CID , CID Blake2b
russian, 1983
ダウンロード (djvu, 481 KB)
  • Checking other formats...
への変換進行中。
への変換が失敗しました。

主要なフレーズ

 
покрытия
рис
тока
поверхности
экрана
отверстий
деталей
отверстия
электролита
трубки
равномерность
сопротивление
хромировании
покрытий
равномерности
анодов
металла
приспособления
хромирования
покрываемой
экранов
осаждения
приспособлений
распределение
электрического
поверхностей
приспособление
chipmaker.ru
аноды
неравномерность
одк
определяют
покрытие
поля
случаях
экран
дозировки
непроводящих
покрытии
хромового
анод
диаметр
диаметра
значительно
катод
неравномерности
пресс
формы
экраны
электродов
вала
внутренней
дополнительных
непроводящие
ряда
сопротивления
счет
толщину
толщины
ячейка